國研院攜手汎銓科技，攻克新一代極紫外光製程後結構分析技術瓶頸

原文重點：而汎銓科技運用國研院國儀中心客製化開發的原子層沉積設備，針對不同材料與分析情境調校專屬製程參數，成功發展出符合當前半導體產業嚴苛需求的分析技術。